Коррекция динамических ошибок

NanoMaker обладает еще одной абсолютно уникальной функцией, которая позволяет измерять и активно компенсировать динамические искажения отклоняющей системы микроскопа. Эти ошибки неизбежно возникают в электромагнитных системах отклонения всех без исключения микроскопов в результате переходных процессов, когда необходимы мгновенные перемещения луча на большие расстояния. Все известные нам литографические системы до сих пор используют единственный способ для решения этой проблемы - это бланкирование луча на время его перемещения. Фактически это означает, что на некоторое время ток выключается и возникает вынужденный простой в процессе экспонирования. Хотя продолжительность таких остановок оценивается в миллисекундах, общее время экспонирования увеличивается очень существенно (даже в разы). NanoMaker снабжен функцией, которая позволяет избежать выключения тока и решает проблему "на лету" путем расчета траектории таким образом, чтобы обеспечить перемещение электронного пучка в нужную точку и нужный момент времени.

Эта особенность позволяет использовать для проведения литографии микроскопы не оборудованные системой быстрого бланкирования луча. Конечно, бланкирование луча необходимо, когда микроскоп оборудован компьютеризованным столом и нужно экспонировать с перемещениями стола. Если микроскоп оснащен механическим столом с лазерными интерферометрами, NanoMaker позволяет экспонировать очень большие структуры, осуществляя совмещение и стыковку полей после переездов.

Данный тест был выполнен в компании Raith GmbH, чтобы продемонстрировать преимущества применения коррекции динамических ошибок системы отклонения при экспонировании. Литография выполнялось с использованием 13-ти разрядного генератора изображений на микроскопе JSM 6400 не оборудованном системой бланкирования луча. Время экспонирования на точку (dwell time) составляло 18 мкс.

Fig. 1a. Принцип идеи компенсации динамических ошибок	Fig. 1b. Тестовая структура для выявления динамических эффектов