NanoMaker Pattern Generation System for SEM and FIB Direct Write Lithography

NanoMaker

Скачать

Примеры Использования

Поддержка

Публикации

Контакты


NanoMaker

	О Продукте
	Функции
	Продукты
	Генератор Изображений
	Фотогалерея

Скачать

Примеры Использования

Поддержка

Публикации

Контакты


Site search by Google

Архив событий из раздела "Что нового?"

Список событий в обратном хронологическом порядке

	March 04, 2016 Решения компании Интерфейс и ИПТМ РАН были представлены на конференции The Optical Document Security Conference™ в Сан-Франциско
	Решения компании Интерфейс в области нанотехнологий получили признание на The Optical Document Security Conference™
	June 18, 2015 NanoMaker экспонировался на международной выставке 2015 Photonic Festival in Taiwan
	NanoMaker был представлен на международной выставке 2015 Photonic Festival in Taiwan
	December 10, 2014 Наша статья о проектировании и изготовлении радужных голограмм опубликована в журнале Optics Express
	Наша статья, посвященная проектированию и изготовлению радужных голограмм с использованием электронно-лучевой литографии на базе РЭМ, опубликована в журнале Optics Express, Vol. 22, Issue 23, pp. 28756-28770 (2014)
	April 08, 2014 Interface Ltd подписал Соглашение о Представительстве с китайской компанией Grapes Hangzhou Technology Co. Ltd для продвижения NanoMaker в Китае
	Interface Ltd подписал Соглашение с китайской компанией Grapes Hangzhou Technology Co. Ltd для продвижения NanoMaker в Китайской Народной Республике. Компания Grapes Hangzhou Technology Co. Ltd расположена в городе Ханчжоу (Hangzhou) провинции Чжэцзян (Zhejiang) и осуществляет продажи и сервисное обслуживание продукции нескольких известных западных компаний в области AFM и аксессуаров для SEM/FIB.
	November 11, 2013 Литографическая система NanoMaker поставлена в исследовательскую лабораторию Университета города Жешув, Польша
	Литографическая система NanoMaker поставлена в исследовательскую лабораторию Университета города Жешув, Польша
	January 30, 2013 Разработан эффективный пакет программного обеспечения для проектирования (синтеза) дифракционных оптических элементов (ДОЭ) и моделирования работы ДОЭ
	Разработан эффективный пакет программного обеспечения для проектирования (синтеза) дифракционных оптических элементов (ДОЭ) и моделирования работы ДОЭ. Предполагается, что ДОЭ освещается точечным источником света. Пакет включает: программное обеспечение ZON, для расчета структуры ДОЭ в схеме на пропускание и отражение; программное обеспечение KRGF, для моделирования изображения, создаваемого ДОЭ, методом интеграла Кирхгофа, программное обеспечение DS, для моделирования изображения в более простом приближении (приближении Френеля), но с учетом свойств материала и теневых эффектов. Дополнительное программное обеспечение позволяет выполнять моделирование с помощью реального не точечного источника. При расчете учитываются толщина профиля зонной пластинки, форма источника, так же как и кривизна подложки. Это особенно важно для дифракционных фокусирующих элементов и решеток на полном внешнем отражении, притом что поперечный размер структуры может достигать одного метра. Данный программный пакет может быть использован совместно с программным обеспечением NanoMaker для подготовки данных для ионной и электронно-лучевой литографии.
	March 14, 2012 Опубликован пресс релиз по результатам совместной работы по проектированию, оптимизации и изготовлению радужных голограмм
	Опубликован пресс релиз по результатам совместной работы по проектированию, оптимизации и изготовлению радужных голограмм южнокорейскими компаниями KERI и 3SMK и российскими Интерфейс и ИПТМ РАН.
	February 17, 2011 NanoMaker was sucessfully hooked on Zeiss Orion helium-ion microscope at the St. Petersburg State University. A few installation tests were carried out to assess the possibilities of the instrument-driven milling and resist exposure.
	NanoMaker was sucessfully hooked on Zeiss Orion helium-ion microscope at the St. Petersburg State University. During installation several tests were carried out to assess the possibilities of the instrument-driven milling and resist exposure.
	May 22, 2008 SEMTech Solutions Inc. will present NanoMaker at the international conferences and tradeshows EIPBN 2008 in Portland and Nanotech 2008 in Boston
	SEMTech Solutions Inc. will present NanoMaker at the international conferences and tradeshows on Electron, Ion, and Photon Beam thechnology and Nanofabrication (EIPBN)...
	April 07, 2008 Interface Ltd. has signed a contract to promote the NanoMaker in North America
	Interface Ltd. has signed a contract with SEMTech Solutions Inc., USA company, to exclusively promote the NanoMaker in North America. SEMTech Solutions is headquarted in Billerica, Massachusetts and is an established and knowledgeable provider...

		Copyright © 2002-2020 Interface Ltd. & IMT RAS